Ответы в ворде (03)

Посмотреть архив целиком

03. Конструкция и структуры тонкопленочных проводников и пассивных элементов микросборок. Материалы, размеры, характеристики, основные расчетные соотношения. Виды технологических операций формирования структуры пленочных резисторов.

Термическое напыление в вакууме. Такое напыление основано на свойстве атомов (молекул) металлов и некоторых других мате­риалов при испарении в условиях высокого вакуума перемещаться прямолинейно (лучеобразно) и осаждаться на поверхности, постав­ленной на пути их движения.

Установка для напыления в вакууме (рис. 15.3) состоит из плос­кой плиты 6, на которой устанавливается стеклянный или метал­лический колпак 9. В последнем случае он снабжается смотровым стеклом. На плите предусмотрены два изолированных вакуумплотных вывода 4 для питания испарителя 3. На некотором расстоя­нии от испарителя помещается подложка 10, на которую наносится тонкая пленка. Подложка нагревается и до достижения заданного режима закрыта заслонкой 1.

Рис. 15.3. Установка для терми­ческого напыления в вакууме:

1 - заслонка; 2 - испаряемый матери­ал: 3 - испаритель; 4 - вакуумплотные выводы;

5 - герметизирующая прокладка; 6 - плита; 7 - присоедине­ние к вакуумному насосу;

8 - изоля­тор выводов; 9 - колпак; 10 - подлож­ка; 11- держатель подложки; 12нагреватель.


В соответствии с физическими процессами, происходящими, при испарении в вакууме, можно выделить следующие области образо­вания пленки: 1) перевод напыляемого материала в парообразное состояние; 2) перенос пара от источника испарения к подложке; 3) конденсация пара на подложке и образование пленки.

Перевод напыляемого материала в парообраз­ное состояние. В области образования паров происходит ис­парение материала, который нагревается до тех пор, пока давление его паров не превысит давления остаточных газов. При этом наи­более нагретые молекулы, обладающие высокой кинетической энергией, преодолевают силы молекулярного притяжения и отрываются от поверхности расплава. Вследствие резко пониженной теплопере­дачи в условиях высокого вакуума перегрева подложек не проис­ходит.

Для некоторых материалов условная температура испарения ниже температуры плавления. Например, хром имеет температуру плавления 1800°С, а испаряется при нагревании в вакууме при тем­пературе 1205°С. Переход вещества из твердого состояния в паро­образное минуя жидкое называется сублимацией.




Случайные файлы

Файл
12983.rtf
120640.doc
53781.doc
REPORT11.DOC
147766.rtf




Чтобы не видеть здесь видео-рекламу достаточно стать зарегистрированным пользователем.
Чтобы не видеть никакую рекламу на сайте, нужно стать VIP-пользователем.
Это можно сделать совершенно бесплатно. Читайте подробности тут.